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    PACVD 技术
    PACVD是等离子体辅助化学气相沉积的缩写

    什么是PACVD技术?
           PACVD是等离子体辅助化学气相沉积的缩写,有时也写作PECVD,E代表增强的意思。在PVD过程中,涂层材料是从固体形式蒸发得到;而在PACVD过程中,涂层是从气体形式得到,气体,如HMDSO(六甲基二甲硅醚)在等离子体作用下,大约200 ºC时发生裂解,非反应气体,如氩气,可以使离子沉积到工件表面并形成很薄的涂层,类金刚石(DLC)涂层就是PACVD技术制备的很好的例子,通常应用于摩擦学和汽车行业。

           等离子体辅助化学气相沉积 (PACVD) 用于沉积 DLC 涂层, 通过等离子体激发和电离,激活工艺中的化学反应,借助此工艺,我们可以在约 200 °C 的低温下使用脉冲辉光或高频放电进行沉积,用 PACVD 生成的类金刚石涂层具有摩擦系数低和可扩展的表面硬度特性。

    PACVD技术工艺图

    工艺基础  (PACVD)

    涂层厚度

    1 – 8µm

    硬度

    1,000 – 3,500HV

    耐高温

    350 – 400 °C

    沉积温度

    180 – 350 °C

    优点:
    • 高耐磨性
    • 低摩擦系数
    • 耐腐蚀
    • 即使两个涂层表面相对摩擦,每个涂层都能够提供最佳的性能和可靠性

    典型应用:
    • 摩擦学应用
    • 塑料加工
    • 光学 行业
    • 半导体行业
    • 汽车零部件
    • 工程
    • 赛车部件